光刻技術與我們的生活息息相關，我們用的手機、電腦等各種各樣的電子產品，里面的芯片制作離不開光刻技術。如今的世界是一個信息社會，而光刻技術是制造承載信息的載體的關鍵技術，具有不可替代的作用。
一、光刻技術的原理
光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機上紫外光源發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上的圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
這就是光刻的作用，類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。
光刻技術是一種精密的微細加工技術。常規光刻技術是采用波長為2000～4500埃的紫外光通過光掩膜版后作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間媒介，實現圖形的變換、轉移和處理，然后把圖像信息傳遞到晶片（主要指硅片）或介質層上的一種工藝。
廣義上，光刻包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面：
1、光復印工藝：經曝光系統將預制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預涂在晶片表面或介質層上的光致抗蝕劑薄層上。
2、刻蝕工藝：利用化學或物理方法，將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質層除去，從而在晶片表面或介質層上獲得與抗蝕劑薄層圖形完quan一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的，因而光刻工藝總是多次反復進行。例如，大規模集成電路要經過約10次光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。
二、紫外壓印光刻技術（UV-NIL)
紫外壓印工藝是將單體涂覆的襯底和透明印章裝載到對準機中, 在真空環境下襯底和印章被固定在各自的卡盤上，當兩者的光學對準完成后, 開始接觸壓印，透過印章的紫外曝光促使壓印區域的聚合物發生聚合和固化成型。
與熱壓印技術相比, 紫外壓印對環境要求更低, 僅在室溫和低壓力下就可進行。使用該技術能縮短生產周期, 同時減小印章磨損。由于工藝過程的需要, 制作紫外壓印印章要求使用能被紫外線穿過的材料，如玻璃、石英等。
