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我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復制模板。結合金剛石車削或直接寫入方法，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

納米壓印支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱，可在最小的占位面積上提供了優于其他品牌的掩模對準技術，并具有最高的產能，優良的對準功能和優化的總擁有成本。操作員友好型軟件，最短的掩模和工具更換時間以及高效的*服務和支持使它成為任何制造環境的理想解決方案。EVG6200 NT或安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統有半自動或自動配置，并配有集成的振動隔離功能。

多功能EVG7300 UV納米壓印光刻系統可以支持多種相關的UV工藝:SmartNIL，晶圓級光學(WLO)和堆疊-三種功能合并在一個靈活的工具中

長達 150 毫米的自動化全場紫外納米壓印解決方案，采用 EVG 專有的 SmartNIL 技術

EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱，在蕞小的占位面積上結合了優良的對準功能和蕞優化的總體擁有成本，提供了優于其他品牌的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件，蕞短的掩模和工具更換時間以及高效的*服務和支持，使它成為任何制造環境的理想解決方案。